マイクロレジストテクノロジー社(Micro Resist Technology)の日本の総代理店として、マイクロレジストテクノロジー社の各種レジスト剤を販売しております。
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ネガティブフォトレジスト
- ma-N 400
- ma-N 1400
- ma-N 2400
- mr-EBL 6000 and mr-UVL 600
- EpoCore and EpoClad
各種用途に設計された各種ネガティブフォトレジストシリーズ
– 従来のパターン転写
– リフトオフプロセス
– 永久マテリアルとして使用
各種の粘性ですぐに利用できるソルーション
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ナノインプリントポリマー
- 熱可塑性プラスチック
- 硬化ポリマー（熱硬化性）
- UV硬化ポリマー
優れた膜品質
各種基盤材のコーティング（例：Si、SiO2、AI）
少なくとも50nmでの最少形状で実現可能（モールド解像度に依存）
高度なパターン転写忠実性
安全な溶剤
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ハイブリッドポリマー
- Ormocomp
- Ormocore
- Ormoclad
- Ormostamp
優れたトランスペアレンシー
優れた機械的特性
高い化学的／物理的安定性
優れたパターン転写忠実性
すぐに使用可能なソルーション
無溶剤
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ポジ型フォトレジスト
- ma-P 1200シリーズ
- ma-P 1275
- ma-P 1275 HV
g-line、i-lineまたは広帯域露光に対する感度
露光後ベークなし
容易な除去
各種粘性にすぐ使用できるレジストソルーション
広いプロセスウィンドウと容易な取扱い
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