マイクロレジストテクノロジー社(Micro Resist Technology)の日本の総代理店として、マイクロレジストテクノロジー社の各種レジスト剤を販売しております。
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ネガティブフォトレジスト

  • ma-N 400
  • ma-N 1400
  • ma-N 2400
  • mr-EBL 6000 and mr-UVL 600
  • EpoCore and EpoClad

各種用途に設計された各種ネガティブフォトレジストシリーズ
– 従来のパターン転写

– リフトオフプロセス

– 永久マテリアルとして使用

各種の粘性ですぐに利用できるソルーション

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ナノインプリントポリマー

  • 熱可塑性プラスチック
  • 硬化ポリマー(熱硬化性)
  • UV硬化ポリマー

優れた膜品質
各種基盤材のコーティング(例:Si、SiO2、AI)
少なくとも50nmでの最少形状で実現可能(モールド解像度に依存)
高度なパターン転写忠実性
安全な溶剤

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ハイブリッドポリマー

  • Ormocomp
  • Ormocore
  • Ormoclad
  • Ormostamp

優れたトランスペアレンシー
優れた機械的特性
高い化学的/物理的安定性
優れたパターン転写忠実性
すぐに使用可能なソルーション
無溶剤

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ポジ型フォトレジスト

  • ma-P 1200シリーズ
  • ma-P 1275
  • ma-P 1275 HV

g-line、i-lineまたは広帯域露光に対する感度
露光後ベークなし
容易な除去
各種粘性にすぐ使用できるレジストソルーション
広いプロセスウィンドウと容易な取扱い

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